Arthur Sherman : Atomic Layer Deposition for Nanotechnology : An Enabling Process for Nanotechnology Fabrication

Atomic layer deposition on ohutkalvojen valmistusmenetelmä, jossa pintareaktiot mahdollistavat nanometrin paksuisten kerrosten kasvattamisen. Kirja tarkastelee prosessin fysikaalisia ja kemiallisia perusteita sekä sen sovelluksia nanoteknologiassa.

Suitable for: Sopii atomikerroskasvatuksesta kiinnostuneille tutkijoille, insinööreille ja jatko-opiskelijoille.