Arthur Sherman : Atomic Layer Deposition for Nanotechnology : An Enabling Process for Nanotechnology Fabrication

Atomic layer deposition on ohutkalvojen valmistusmenetelmä, jossa pintareaktiot mahdollistavat nanometrin paksuisten kerrosten kasvattamisen. Kirja tarkastelee prosessin fysikaalisia ja kemiallisia perusteita sekä sen sovelluksia nanoteknologiassa.

Kenelle: Sopii atomikerroskasvatuksesta kiinnostuneille tutkijoille, insinööreille ja jatko-opiskelijoille.